表面處理的工藝參數(shù)已數(shù)十年未變化，溶液的硫酸濃度和鋁離子范圍、溫度和電流密度均已列入各國(guó)標(biāo)準(zhǔn)。為了提高陽(yáng)極氧化效率，加快成膜速度，必然要求保證氧化膜性能的前提下盡量加大電流密度，并想方設(shè)法提高成膜系數(shù)。氧化膜厚度是與通過(guò)的電量（即電流乘以時(shí)間）庫(kù)侖值成正比，并因合金不同而異。

     例如：對(duì)于鋁合金1100、5005、5052和6063.生成25μm氧化膜需要4700庫(kù)侖/d ㎡；而6061、6082和6300鋁合金則需要5500庫(kù)侖/d ㎡，此時(shí)若外加電流密度為1.5A/d ㎡，則生成20μm氧化膜需要時(shí)間為44min，則成膜速度為0.46μm/min。公司的最新產(chǎn)品《高頻陽(yáng)極氧化電源》在25℃下電流密度達(dá)3A/d ㎡，則成膜速度比硅整流器以及其他高頻機(jī)提高到1.2μ/min以上。

     鴻升億高頻電源采用電力電子的最新成果，推出GGDS系列高頻氧化電源。它采用了具有國(guó)際先進(jìn)水平的IGBT模塊全橋逆變電源技術(shù)。用納米晶軟磁材料的變壓器體積小，重量輕，藕合緊密，電流分布均勻，組裝方便，有效地解決了電網(wǎng)對(duì)電源的干擾及電源對(duì)電網(wǎng)的諧波的影響，提高了電源的可靠性，增加了電源的平均無(wú)故障時(shí)間。高效率的降溫、使元器件功率利用率大大提高，把高頻氧化電源技術(shù)又推進(jìn)了一步。全密封水冷技術(shù)避免了因風(fēng)冷的原因而導(dǎo)致元器件腐蝕造成氧化設(shè)備損壞。

整流機(jī)的發(fā)展概況：

氧化電源是氧化工藝必不可少的重要設(shè)備，它的性能指標(biāo)很大程度上決定了鋁型材氧化生產(chǎn)水平、產(chǎn)品質(zhì)量和節(jié)能效果。

早期的直流發(fā)電機(jī)是鋁型材氧化及電鍍行業(yè)的第一代電源，到60年代由于大功率的整流管的產(chǎn)生出現(xiàn)了鋁型材氧化及電鍍行業(yè)的第二代電源——硅整流器，但是這兩代電源都存在著笨重、耗能、輸出指標(biāo)低以及精度差，控制不便等缺點(diǎn)，以后逐步被第三代整流器——可控硅整流器所取代�？煽毓枵�流器由于精度高、控制方便在70年代以后逐步得到了廣泛的應(yīng)用。但是可控硅整流器仍是以笨重的高耗材的工頻變壓器為基礎(chǔ)，因此該電源體積大、笨重、高耗材高耗能的缺點(diǎn)依然存在。又由于該電源的電壓和電流的調(diào)整是依靠可控硅的開放角度來(lái)控制，因此會(huì)產(chǎn)生大量的諧波，從而污染電網(wǎng)，由于可控硅整流器工作頻率在低頻段，因此很不容易被濾波器吸收，這顯然不符合清潔生產(chǎn)的要求。在這種情況下，能克服可控硅整流器許多缺點(diǎn)的第四代整流器——高頻鋁氧化電源應(yīng)運(yùn)而生。

高頻鋁型材氧化電源不僅體積小、低耗材、高效率而且精度高，易控制，因此迅速被鋁型材氧化及電鍍行業(yè)所接受。國(guó)際上只要是稍先進(jìn)的國(guó)家基本上已淘汰了可控硅整流器。國(guó)內(nèi)鋁型材氧化及電鍍行業(yè)對(duì)高頻開關(guān)電源的應(yīng)用也越來(lái)越普遍。